高純氯化氫是集成電路生產(chǎn)中硅片蝕刻

    高純氯化氫是集成電路生產(chǎn)中硅片蝕刻，鈍化和外延等工藝的重要材料，也可用于金屬冶煉，光導(dǎo)通訊和科學(xué)研究等領(lǐng)域。隨著大規(guī)模集成電路的發(fā)展，對(duì)氯化氫純度的要求越來越高，對(duì)其中雜質(zhì)的含量要求越來越苛刻，尤其要求嚴(yán)格限制碳?xì)浠衔锖吞佳趸衔锏暮?，以防止硅片加工過程中c的形成。國內(nèi)外對(duì)于制備高純氯化氫的方法有很多。今天跟大家簡(jiǎn)單介紹一下其中的鹽酸脫析法的工藝流程：鹽酸脫析法。將濃鹽酸置于脫析塔中加熱脫析制氯化氫氣體。鹽酸脫吸法制高純氯化氫廣泛應(yīng)用于PVC、氯丁二烯和高純鹽酸等的生產(chǎn)中。此種方法生產(chǎn)的氯化氫氣體純度在99．9％ (質(zhì)量分?jǐn)?shù))以上。

    其工藝流程為：將濃鹽酸貯槽之濃酸用濃酸泵打至脫吸塔，脫吸塔下部連接再沸器，濃酸自塔頂噴淋而下，與來自再沸器的稀酸蒸氣逆流傳質(zhì)傳熱，使氯化氫脫吸。所得之恒沸酸一部分補(bǔ)充再沸器的循環(huán)，一部分則經(jīng)板式冷卻器后流入稀酸貯槽。由脫吸塔出來的含水蒸氣氯化氫氣體，進(jìn)人石墨列管冷卻器用水冷卻后經(jīng)過旋風(fēng)分離器，分離出夾帶酸霧。然后，經(jīng)過一系列的常溫、低溫干燥、吸附除水及二氧化碳，壓縮至1．2MPa，進(jìn)行低溫精餾，再經(jīng)低溫吸附除氮后壓縮至4．2MPa，裝瓶。

    我公司專業(yè)經(jīng)營高純氯化氫、氯化氫氣體、氯氣、高純氯氣等產(chǎn)品，產(chǎn)品質(zhì)量好，價(jià)格公道，深受行業(yè)的好評(píng)，是最值得信賴的山東氯化氫氣體供應(yīng)基地。歡迎新老用戶前來咨詢洽談！