關(guān)于HCl增加脫水反應(yīng)步驟的介紹

    氯化氫氣體的純度決定了它的使用范圍，純度越高使用的范圍就越廣。使用范圍上最可以在電子行業(yè)體現(xiàn)出來(lái)。

    依據(jù)對(duì)氯化氫氧化平衡的核算和剖析，提出將反響-脫水耦合技能應(yīng)用于氯化氫氧化進(jìn)程中，研討了反響-脫水耦合的模仿工藝。成果表明，在氯化氫接連氧化的進(jìn)程中，添加脫水進(jìn)程能有用進(jìn)步氯化氫的反應(yīng)轉(zhuǎn)化率。調(diào)查了在氧氣不過(guò)量情況下的多步脫水循環(huán)進(jìn)程，成果顯現(xiàn)進(jìn)步二次氧化反應(yīng)的溫度可明顯進(jìn)步氯化氫的轉(zhuǎn)化率，在HCl/O2摩爾比為8:1的條件下顛末多步脫水循環(huán)反響，氯化氫的總轉(zhuǎn)化率可以到達(dá)49.3%，反響混合氣中氧氣的體積含量低于0.2%。該混合氣可直接用于有機(jī)氯化進(jìn)程。

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